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中颅窝盖板低位的高分辨率CT“分度标准”构想
- 孙晓卫, 李东梅, 窦芬芬, 张子和, 张建基, 丁元萍, 史丽
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2015, 29(6):
22-25.
doi:10.6040/j.issn.1673-3770.0.2015.209
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摘要
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多维度评价
目的 观察中颅窝盖板低位对耳后进路清除上鼓室病变的影响,探讨中颅窝盖板低位的分度标准.方法 对87例影像科报告中颅窝盖板低位的慢性化脓性中耳炎患者的CT图像进行冠状位重建,沿外耳道上壁最高点作水平切线L1,自该层面出现上半规管结构的最高点作水平切线L2,沿该层面的中颅窝盖板最低点作水平切线L3,测量L1~L2距离 a和L1~L3距离b,计算b/a值r,依据r值将中颅窝盖板低位分为正常、轻、中、重及绝对低位,与3位手术医生术前评估及手术记录结果进行比较.结果 手术医生根据不同的r值,不同观点如下:①当r<1/4时,不认同影像科提示的中颅窝盖板低位;②当1/4≤r<1/3时,认同中颅窝盖板低位,但手术记录中未提及;③当1/33/4时,清除上鼓室病变时非常困难,中颅窝盖板低位导致的耳后进路已不可避免的要磨除外耳道后壁.结论 可依据r值可将中颅窝盖板低位分无、轻、中、重及绝对低位"5度",轻度对耳后进路清除上鼓室病变无影响,中度耳后进路清除上鼓室病变存在困难,重度经耳后进路清除上鼓室病变部分需要磨除外耳道后壁,绝对低位时磨除外耳道后壁已不可避免.